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      ¡ÜÁ÷¹« ¼³¸í             ¡Ü¼öÇà¾÷¹« ¡Û Lithography °øÁ¤ chemicals Á¦Ç° ¼³°è (Â÷º°ÈµÈ Á¦Ç° ¼³°è ÇÊ¿ä)  - Photoresist Á¦Ç° Design (Polymer, PAG, Quencher)  - BARC Á¦Ç° Design (Polymer)  - TARC Á¦Ç° Design (Polymer)   ¡Û Lithography °øÁ¤ Chemicals ¿¬±¸°³¹ß  - Polymer Á¦Á¶ Á¶°Ç set-up (ºÐÀÚ·®, PDI, Composition Ratio Á¶Àý)  - Á¦Ç° Coating ¼º´É Æò°¡  - Á¦Ç° Lithography ¼º´É Æò°¡  - Formulation ¿¬±¸  - ½ÃÁ¦Ç° »ý»ê   ¡Û Technical Service  - °í°´»ç Trouble Shooting  - °í°´»ç Pre-maketing Áö¿ø           ¡Ü±âŸ»çÇ× ¡Û °æ·Â 4³â ÀÌ»ó º¸À¯ÀÚ ¿ì´ë ¡Û ÀüÀÚ Àç·á ¾÷ü °æ·ÂÀÚ ¿ì´ë  
      ¡ÜÇʼö ¡ÛÇз  Çлç~¹Ú»ç       ¡Ü±âŸ»çÇ× ¡Û ÀÔ»ç Áö¿øÀº ´ç»ç ȨÆäÀÌÁö¸¦ ÅëÇÑ ¿Â¶óÀÎ Áö¿ø¸¸ °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù. ¡Û ³²ÀÚÀÇ °æ¿ì, º´¿ªÀ» ÇÊÇϰųª ¸éÁ¦µÈ ÀÚ¿¡ ÇÑÇØ Áö¿ø °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù. ¡Û ±¹°¡ À¯°øÀÚ ¹× º¸ÈÆ ´ë»óÀÚ´Â °ü·Ã¹ý¿¡ ÀÇÇØ ¿ì´ë ÇÕ´Ï´Ù. ¡Û Àå¾ÖÀÎ °í¿ëÃËÁø ¹× Á÷¾÷ÀçȰ¹ý¿¡ µû¶ó Àå¾ÖÀÎ µî·ÏÁõ ¼ÒÁöÀÚ¸¦ ¿ì´ëÇÕ´Ï´Ù. ¡Û ÀÔ»çÁö¿ø¼ ³»¿ëÀÌ »ç½Ç°ú ´Ù¸¦ °æ¿ì ÇÕ°Ý(ÀÔ»ç)ÀÌ Ãë¼ÒµË´Ï´Ù. ¡Û »ó¼¼ ÁøÇà ÀÏÁ¤Àº ÀüÇü º°·Î »óÀÌÇѹÙ, ´ë»óÀÚ¿¡ ÇÑÇØ °³º° ¿¬¶ôµå¸± ¿¹Á¤ ÀÔ´Ï´Ù.             |
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