ÀÏÀß·¯Ã¤¿ë°ü
ä¿ëÁ¤º¸
ÀÎÀç°Ë»ö
±³À°Á¤º¸
ÇìµåÇåÆÃ
½º¸¶Æ®Å¸¿î
ȸ¿ø¼­ºñ½º
À̷¼­ µî·Ï
ä¿ë°ø°í µî·Ï

¼ÒÀç°³¹ß ºÐ¾ß °æ·ÂÁ÷ ä¿ë

¾÷Á¾ ¹ÝµµÃ¼/LCD/±¤ÇÐ ÀÚº»±Ý
±â¾÷ÇüÅ ´ë±â¾÷ ¸ÅÃâÇöȲ
´ëÇ¥ÀÚ »ç¿ø¼ö
ȸ»çÁÖ¼Ò
  • ÇöÀç ä¿ëÁ¤º¸¸¦ º¹»çÇÕ´Ï´Ù.
  • ÇöÀç ä¿ëÁ¤º¸¸¦ ÇÁ¸°ÆÃÇÕ´Ï´Ù.




Á÷Á¾ È­ÇС¤È­°ø
±Ù¹«ÇüÅ Á¤±ÔÁ÷ ä¿ëÁ÷±Þ -
¸ðÁýÀοø 0 ¸í ³ªÀÌ Á¦ÇѾøÀ½
°æ·Â °æ·Â ±Þ¿©Á¶°Ç ´ç»ç±ÔÁ¤
Çз ´ëÁ¹ ÀÌ»ó Á¢¼ö±â°£ Á¢¼ö±â°£ÀÌ Áö³µ½À´Ï´Ù
 [ȨÆäÀÌÁöÁ¢¼ö]

Á¢¼ö±â°£ÀÌ Áö³µ½À´Ï´Ù

* ´ã´ç¾÷¹«
»ó¼¼Á¶°Ç












ä¿ëÀ¯Çü 

ä¿ëÁ÷¹« 

±Ù¹«Áö 

ä¿ëÀοø 

°æ·Â 

°øÁ¤(R&D) 

ÀÌõ

0¸í 



¢ÃÀÚ°Ý¿ä°Ç

- Ã¤¿ë Á÷¹«ÀÇ ÀÚ°Ý ¿ä°ÇÀ» ÃæÁ·ÇÏ´Â ºÐ
- ÇØ¿Ü¿©Çà ¹× °Ç°­»ó °á°Ý »çÀ¯°¡ ¾ø´Â ºÐ
















Çз 

¼®»çÀÌ»ó

Àü°ø 

½Å¼ÒÀç, È­ÇÐ, È­°ø, Àç·á 

¿Ü±¹¾î 

¿µ¾î Ä¿¹Â´ÏÄÉÀÌ¼Ç °¡´ÉÀÚ

ÇØ´ç°æ·Â 

3³âÀÌ»ó 

±âŸ 

±¹³» ÁÖ¿ä ¼ÒÀç °ø±Þ ¾÷ü / ¼ÒÀÚ ¾÷ü À¯°æÇèÀÚ ¿ì´ë


¢ÃÀüÇüÀýÂ÷

¼­·ùÀüÇü > SKCT°Ë»ç(½ÉÃþ) > ¸éÁ¢ÁøÇà > °Ë°­°ËÁø > ó¿ìÇùÀÇ


¢ÃÁÖ¿ä¼öÇà¾÷¹«

- Á÷¹« 1. High - k À¯Àü¸· ¹× ±Ý¼Ó¿ë Precursor
   ¡Ø ÀÚ»ç ¼³ºñ Platform¿¡ ¸Â´Â ½Å±Ô Precursor ¹°Áú °³¹ß 
   ¡Ø ±âº»ÀûÀÎ ÇÕ¼º Sequence¿¡ ´ëÇÑ Áö½Ä±â¹ÝÀ¸·Î °³¹ß´Ü°è¿¡¼­ÀÇ PrecursorǰÁú°ü¸® ¹× 
      ½Å±Ô°ü¸® Para.¹ß±¼
   ¡Ø ½Å±Ô Precursor ConceptÁ¦¾È 
- Á÷¹« 2. Cleaning Chemical °³¹ß ¹× ǰÁú °ü¸®
   ¡Ø Àڻ缳ºñ Platform¿¡ ¸Â´Â ½Å±Ô Chemical ¹°Áú °³¹ß
   ¡Ø ½Å±Ô Chemical Concept Á¦¾È 
   ¡Ø °øÁ¤°úÀÇ ¿¬°è¸¦ ÅëÇÑ Device Ư¼º °³¼± Para.¹ß±¼
   ¡Ø ±âº»ÀûÀÎ Á¦Á¶ Sequence¿¡ ´ëÇÑ Áö½ÄÀ» ¹ÙÅÁÀ¸·Î °³¹ß´Ü°è¿¡¼­ÀÇ Wet Chemical 
      Ç°Áú°ü¸® ¹× ½Å±Ô °ü¸® para.¹ß±¼ 
- Á÷¹« 3. CMP Slurry °³¹ß 
   ¡Ø Slurry °³¹ß °ü·Ã Abrasive & Additive ÇÕ¼º ¹× ǰÁú °ü¸® 
   ¡Ø ½Å±Ô ¹× ±âÁ¸ Slurry¿¡ ´ëÇÑ Ç°Áú°ü¸® 
- Á÷¹« 4. CMP¿ë Consumable°³¹ß 
   ¡Ø ¹ÝµµÃ¼ CMP°øÁ¤ °³¼±À» À§ÇÑ Consumable ǰÁú°ü¸®


¢ÃÁ¢¼ö¹æ¹ý

´ç»ç ȨÆäÀÌÁö Á¢¼ö ÀÌ¿ë

¡Ø Á¢¼öó : ÀÔ»ç Áö¿øÀº ´ç»ç ä¿ëÆ÷ÅÐÀ» ÅëÇÑ ¿Â¶óÀÎ Áö¿ø¸¸ °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.


¢ÃÁ¢¼ö±â°£

2018³â 03¿ù 23ÀÏ (±Ý) ~ 2018³â 04¿ù 13ÀÏ (È­) 24:00 ±îÁö


¢Ã±âŸ

- ³²ÀÚÀÇ °æ¿ì, º´¿ªÀ» ÇÊÇϰųª ¸éÁ¦µÈ ÀÚ¿¡ ÇÑÇØ Áö¿ø °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.
- º¸ÈÆ ´ë»óÀÚ´Â °ü·Ã¹ý¿¡ ÀǰŠ¿ì´ëÇÕ´Ï´Ù.
- Àå¾ÖÀÎ °í¿ëÃËÁø ¹× Á÷¾÷ÀçȰ¹ý¿¡ µû¶ó Àå¾ÖÀÎ µî·ÏÁõ ¼ÒÁöÀÚ´Â ¿ì´ëÇÕ´Ï´Ù.
- ÀÔ»çÁö¿ø¼­ ³»¿ëÀÌ »ç½Ç°ú ´Ù¸¦ °æ¿ì ÇÕ°Ý(ÀÔ»ç)ÀÌ Ãë¼ÒµË´Ï´Ù.


¢Ã¹®ÀÇó

- SKÇÏÀ̴нº ¹Ì·¡±â¼ú¿¬±¸¿ø R&DÀÎ·ÂÆÀ °æ·Â ä¿ë ´ã´çÀÚ ±èÀ¯Áø Ã¥ÀÓ
- E - Mail : yujin1.kim@sk.com, ÀüÈ­ : 031)639-6847



* ÀÔ»çÁö¿ø ½Ã Áß¿ä»çÇ×À» ²À üũÇϼ¼¿ä!

* ±Ù¹«È¯°æ
±Ù¹«Áö¿ª : °æ±â
±Þ¿©Á¶°Ç : ´ç»ç±ÔÁ¤
* Á¢¼ö°³¿ä

¿À´Ã¸¶°¨

Á¢¼ö±â°£ÀÌ Áö³µ½À´Ï´Ù

¡á Á¢¼ö±â°£   ¡á ¿À´Ã   ¡á ¸¶°¨

2018. 03

  • ÀÏ
  • ¿ù
  • È­
  • ¼ö
  • ¸ñ
  • ±Ý
  • Åä
  • 1
  • 2
  • 3
  • 4
  • 5
  • 6
  • 7
  • 8
  • 9
  • 10
  • 11
  • 12
  • 13
  • 14
  • 15
  • 16
  • 17
  • 18
  • 19
  • 20
  • 21
  • 22
  • 23
  • 24
  • 25
  • 26
  • 27
  • 28
  • 29
  • 30
  • 31

2018. 04

  • ÀÏ
  • ¿ù
  • È­
  • ¼ö
  • ¸ñ
  • ±Ý
  • Åä
  • 1
  • 2
  • 3
  • 4
  • 5
  • 6
  • 7
  • 8
  • 9
  • 10
  • 11
  • 12
  • 13
  • 14
  • 15
  • 16
  • 17
  • 18
  • 19
  • 20
  • 21
  • 22
  • 23
  • 24
  • 25
  • 26
  • 27
  • 28
  • 29
  • 30
* ´ã´çÀÚ Á¤º¸
¸ðÁý±â°£ÀÌ Áö³­ ä¿ëÁ¤º¸ÀÇ °æ¿ì ´ã´çÁ¤º¸´Â °ø°³µÇÁö ¾Ê½À´Ï´Ù.
ÇöÀç ä¿ëÁ¤º¸¸¦ º¹»çÇÕ´Ï´Ù. ÇöÀç ä¿ëÁ¤º¸¸¦ ÇÁ¸°ÆÃÇÕ´Ï´Ù.

µî·Ï : 2018³â 3¿ù 25ÀÏ (ÀÏ) 20:41    ÃÖÁ¾¼öÁ¤ : 2018³â 3¿ù 25ÀÏ (ÀÏ) 20:41

º» Á¤º¸´Â SKÇÏÀ̴нº(ÁÖ) ¿¡¼­ Á¦°øÇÑ ÀÚ·áÀ̸ç, ½ºÄ«¿ìÆ®Àº(´Â) ±× ³»¿ë»óÀÇ ¿À·ù ¹× Áö¿¬, ±× ³»¿ëÀ» ½Å·ÚÇÏ¿© ÃëÇØÁø Á¶Ä¡¿¡ ´ëÇÏ¿© Ã¥ÀÓÀ» ÁöÁö ¾Ê½À´Ï´Ù. º» Á¤º¸´Â ½ºÄ«¿ìÆ®ÀÇ µ¿ÀÇ ¾øÀÌ Àç¹èÆ÷ÇÒ ¼ö ¾ø½À´Ï´Ù.

¢À ½ºÄ«¿ìÆ® ¿¡¼­´Â °ÅÁþ ±¸ÀÎ ±¤°í¿¡ ´ëÇÑ ÇÇÇØ¸¦ ÃÖ¼ÒÈ­ Çϱâ À§ÇÏ¿© ÇãÀ§ ä¿ë°ø°í¿¡ ½Å°íÁ¦µµ¸¦ ½ÃÇàÇϰí ÀÖ½À´Ï´Ù.
°ÅÁþ±¸Àα¤°í¿¡ ´ëÇÑ ±¸Á÷ÀÚÁÖÀÇ»çÇ× ½Å°íÆ÷»ó±ÝÁ¦ ¾È³» ÇãÀ§ ä¿ë°ø°í ½Å°íÇϱâ

±Ù¹«Áö À§Ä¡ º¸±â

±Ù¹«Áö ÁÖ¼Ò

Å©°Ôº¸±â

[ƯÁý±âȹ] ¹ý·ü»ç¹«Á÷

Á÷¾÷µ¸º¸±â

¹ý·ü»ç¹«Á÷À̶õ?º¯..

¸éÁ¢ helper

¸éÁ¢Áú¹®

Àμº ¡Ú¡Ú¡Ú¡Ú
Àû¼º ¡Ú¡Ú¡Ú¡Ú

Special Interview

½ºÆä¼ÈÀÎÅͺä
¹ý·ü »ç¹«Á÷À̶ó´Â ÀÏÀÌ ¾î¶² ÀÏÀÎÁö Àß ¸ð..

À¯»çÁ÷Á¾ÀÇ Ã¤¿ë Á¤º¸