¾÷Á¾ | ¹ÝµµÃ¼/LCD/±¤ÇÐ | ÀÚº»±Ý | |
---|---|---|---|
±â¾÷ÇüÅ | ´ë±â¾÷ | ¸ÅÃâÇöȲ | |
´ëÇ¥ÀÚ | »ç¿ø¼ö | ||
ȸ»çÁÖ¼Ò | °æ±â ÀÌõ½Ã °æÃæ´ë·Î 2091 |
Á÷Á¾ | ¿¬±¸°³¹ß¡¤R&D | ||
---|---|---|---|
±Ù¹«ÇüÅ | Á¤±ÔÁ÷ | ä¿ëÁ÷±Þ | - |
¸ðÁýÀοø | 0 ¸í | ³ªÀÌ | - |
°æ·Â | °æ·Â | ±Þ¿©Á¶°Ç | ´ç»ç±ÔÁ¤ |
Çз | ¼®»ç ÀÌ»ó | Á¢¼ö±â°£ | Á¢¼ö±â°£ÀÌ Áö³µ½À´Ï´Ù |
Á¢¼ö±â°£ÀÌ Áö³µ½À´Ï´Ù
* ´ã´ç¾÷¹« »ó¼¼Á¶°Ç |
¸ðÁýºÎ¹®
ÀÚ°Ý¿ä°Ç- ä¿ë Á÷¹«ÀÇ ÀÚ°Ý ¿ä°ÇÀ» ÃæÁ·ÇÏ´Â ºÐ - ÇØ¿Ü¿©Çà ¹× °Ç°»ó °á°Ý »çÀ¯°¡ ¾ø´Â ºÐ - Çз : ¼®»çÀÌ»ó - Àü°ø : ½Å¼ÒÀç, ÈÇÐ, Ȱø, Àç·á - ¿Ü±¹¾î : ¿µ¾î Communication°¡´ÉÀÚ - ÇØ´ç°æ·Â : 3³â ÀÌ»ó - ±âŸ : ±¹³» ÁÖ¿ä¼ÒÀç °ø±Þ ¾÷ü/¼ÒÀÚ ¾÷ü À¯°æÇèÀÚ ¿ì´ë ÀüÇüÀýÂ÷- ¼·ùÀüÇü ¢º SKCT°Ë»ç(½ÉÃþ) ¢º ¸éÁ¢ÀüÇü ¢º °Ç°°ËÁø ¢º ó¿ìÇùÀÇ ÁÖ¿ä¼öÇà¾÷¹«- Á÷¹« 1. High - k & Elecrode¿ë Precursor ¹× Gas °³¹ß ¹× ǰÁú °ü¸® ¡Ø ÀÚ»ç ¼³ºñ Platform¿¡ ¸Â´Â ½Å±Ô Precursor °³¹ß ¡Ø ±âº»ÀûÀÎ ÇÕ¼º Sequence¿¡ ´ëÇÑ Áö½Ä ±â¹ÝÀ¸·Î °³¹ß´Ü°è¿¡¼ÀÇ Precursor Design ÀûÁ¤¼º °ËÁõ ¹× ½Å±Ô ǰÁú °ü¸® Para.¹ß±¼ ¡Ø ½Å±Ô Precursor Concept Á¦¾È - Á÷¹« 2. Cleaning Chemical °³¹ß ¹× ǰÁú °ü¸® ¡Ø Àڻ缳ºñ Platform¿¡ ¸Â´Â ½Å±Ô Chemical °³¹ß ¡Ø ±âº»ÀûÀÎ ÇÕ¼º Sequence¿¡ ´ëÇÑ Áö½ÄÀ» ¹ÙÅÁÀ¸·Î °³¹ß´Ü°è¿¡¼ÀÇ Wet Chemical Design ÀûÁ¤¼º °ËÁõ ¹× ½Å±Ô ǰÁú °ü¸® para.¹ß±¼ ¡Ø ½Å±Ô Chemical Concept Á¦¾È - Á÷¹« 3. CMP Slurry ¹× Consumables °³¹ß ¹× ǰÁú °ü¸® ¡Ø Àڻ缳ºñ Platform¿¡ ¸Â´Â ½Å±Ô Slurry ¹× Consumables °³¹ß ¡Ø ±âº»ÀûÀÎ ÇÕ¼º Sequence¿¡ ´ëÇÑ Áö½ÄÀ» ¹ÙÅÁÀ¸·Î °³¹ß´Ü°è¿¡¼ÀÇ Slurry Design ÀûÁ¤¼º °ËÁõ ¹× ½Å±Ô ǰÁú °ü¸® para.¹ß±¼ ¡Ø ½Å±Ô Slurry °³¹ß Concpet Á¦¾È - Á÷¹« 4. Wafer °³¹ß ¹× ǰÁú °ü¸® ¡Ø ÀÚ»ç Device Ư¼º °³¼±À» À§ÇÑ Wafer °³¹ß ¡Ø Single Crystal Growth Sequence¿¡ ´ëÇÑ Áö½ÄÀ» ¹ÙÅÁÀ¸·Î Wafer ÀûÇÕ¼º ¹× ½Å±Ô ǰÁú °ü¸® para. ¹ß±¼ ¡Ø ½Å±Ô Wafer °³¹ß Concpet Á¦¾È Á¢¼ö¹æ¹ý ¹× ±â°£- Á¢¼ö¹æ¹ý : ´ç»ç ȨÆäÀÌÁö Á¢¼ö ÀÌ¿ë ¡Ø Á¢¼öó : ÀÔ»ç Áö¿øÀº ´ç»ç ä¿ëÆ÷ÅÐÀ» ÅëÇÑ ¿Â¶óÀÎ Áö¿ø¸¸ °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù. - Á¢¼ö±â°£ : 2018³â 06¿ù 28ÀÏ (¸ñ) ~ 2018³â 07¿ù 22ÀÏ (ÀÏ) 24:00 ±îÁö ±âŸ- ³²ÀÚÀÇ °æ¿ì, º´¿ªÀ» ÇÊÇϰųª ¸éÁ¦µÈ ÀÚ¿¡ ÇÑÇØ Áö¿ø °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù. - º¸ÈÆ ´ë»óÀÚ´Â °ü·Ã¹ý¿¡ ÀǰŠ¿ì´ëÇÕ´Ï´Ù. - Àå¾ÖÀÎ °í¿ëÃËÁø ¹× Á÷¾÷ÀçȰ¹ý¿¡ µû¶ó Àå¾ÖÀÎ µî·ÏÁõ ¼ÒÁöÀÚ´Â ¿ì´ëÇÕ´Ï´Ù. - ÀÔ»çÁö¿ø¼ ³»¿ëÀÌ »ç½Ç°ú ´Ù¸¦ °æ¿ì ÇÕ°Ý(ÀÔ»ç)ÀÌ Ãë¼ÒµË´Ï´Ù. [ ¹®ÀÇó] - SKÇÏÀ̴нº ¹Ì·¡±â¼ú¿¬±¸¿ø R&DÀÎ·ÂÆÀ °æ·Â ä¿ë ´ã´çÀÚ ±èÀ¯Áø Ã¥ÀÓ - E - Mail : yujin1.kim@sk.com, ÀüÈ : 031)639-6847 |
---|
* ÀÔ»çÁö¿ø ½Ã Áß¿ä»çÇ×À» ²À üũÇϼ¼¿ä!
* ±Ù¹«È¯°æ | |
---|---|
* Á¢¼ö°³¿ä |
¿À´Ã¸¶°¨Á¢¼ö±â°£ÀÌ Áö³µ½À´Ï´Ù ¡á Á¢¼ö±â°£ ¡á ¿À´Ã ¡á ¸¶°¨ 2018. 06
2018. 07
|
* ´ã´çÀÚ Á¤º¸ | |
¸ðÁý±â°£ÀÌ Áö³ ä¿ëÁ¤º¸ÀÇ °æ¿ì ´ã´çÁ¤º¸´Â °ø°³µÇÁö ¾Ê½À´Ï´Ù. |
µî·Ï : 2018³â 6¿ù 28ÀÏ (¸ñ) 22:52 ÃÖÁ¾¼öÁ¤ : 2018³â 6¿ù 28ÀÏ (¸ñ) 22:56
º» Á¤º¸´Â SKÇÏÀ̴нº(ÁÖ) ¿¡¼ Á¦°øÇÑ ÀÚ·áÀ̸ç, ½ºÄ«¿ìÆ®Àº(´Â) ±× ³»¿ë»óÀÇ ¿À·ù ¹× Áö¿¬, ±× ³»¿ëÀ» ½Å·ÚÇÏ¿© ÃëÇØÁø Á¶Ä¡¿¡ ´ëÇÏ¿© Ã¥ÀÓÀ» ÁöÁö ¾Ê½À´Ï´Ù. º» Á¤º¸´Â ½ºÄ«¿ìÆ®ÀÇ µ¿ÀÇ ¾øÀÌ Àç¹èÆ÷ÇÒ ¼ö ¾ø½À´Ï´Ù.
¢À ½ºÄ«¿ìÆ® ¿¡¼´Â °ÅÁþ ±¸ÀÎ ±¤°í¿¡ ´ëÇÑ ÇÇÇØ¸¦ ÃÖ¼ÒÈ Çϱâ À§ÇÏ¿© ÇãÀ§ ä¿ë°ø°í¿¡ ½Å°íÁ¦µµ¸¦ ½ÃÇàÇϰí ÀÖ½À´Ï´Ù. | ||
°ÅÁþ±¸Àα¤°í¿¡ ´ëÇÑ ±¸Á÷ÀÚÁÖÀÇ»çÇ× | ½Å°íÆ÷»ó±ÝÁ¦ ¾È³» | ÇãÀ§ ä¿ë°ø°í ½Å°íÇϱâ |
[ƯÁý±âȹ] ¹ý·ü»ç¹«Á÷
Á÷¾÷µ¸º¸±â
¸éÁ¢ helper
Special Interview