ÀÏÀß·¯Ã¤¿ë°ü
ä¿ëÁ¤º¸
ÀÎÀç°Ë»ö
±³À°Á¤º¸
ÇìµåÇåÆÃ
½º¸¶Æ®Å¸¿î
ȸ¿ø¼­ºñ½º
À̷¼­ µî·Ï
ä¿ë°ø°í µî·Ï

°æ·Â - ¼ÒÀçºÐ¾ß °æ·Â Ãß°¡ ¸ðÁý

¾÷Á¾ ¹ÝµµÃ¼/LCD/±¤ÇÐ ÀÚº»±Ý
±â¾÷ÇüÅ ´ë±â¾÷ ¸ÅÃâÇöȲ
´ëÇ¥ÀÚ »ç¿ø¼ö
ȸ»çÁÖ¼Ò °æ±â ÀÌõ½Ã °æÃæ´ë·Î 2091
  • ÇöÀç ä¿ëÁ¤º¸¸¦ º¹»çÇÕ´Ï´Ù.
  • ÇöÀç ä¿ëÁ¤º¸¸¦ ÇÁ¸°ÆÃÇÕ´Ï´Ù.




Á÷Á¾ ¿¬±¸°³¹ß¡¤R&D
±Ù¹«ÇüÅ Á¤±ÔÁ÷ ä¿ëÁ÷±Þ -
¸ðÁýÀοø 0 ¸í ³ªÀÌ -
°æ·Â °æ·Â ±Þ¿©Á¶°Ç ´ç»ç±ÔÁ¤
Çз ¼®»ç ÀÌ»ó Á¢¼ö±â°£ Á¢¼ö±â°£ÀÌ Áö³µ½À´Ï´Ù
 [ȨÆäÀÌÁöÁ¢¼ö]

Á¢¼ö±â°£ÀÌ Áö³µ½À´Ï´Ù

* ´ã´ç¾÷¹«
»ó¼¼Á¶°Ç

°æ·Â - ¼ÒÀçºÐ¾ß °æ·Â Ãß°¡ ¸ðÁý

¸ðÁýºÎ¹®

ä¿ëÀ¯Çü

ä¿ëÁ÷¹«

±Ù¹«Áö

ä¿ëÀοø

°æ·Â

°øÁ¤(R&D)

ÀÌõ

0¸í

ÀÚ°Ý¿ä°Ç

- ä¿ë Á÷¹«ÀÇ ÀÚ°Ý ¿ä°ÇÀ» ÃæÁ·ÇÏ´Â ºÐ

- ÇØ¿Ü¿©Çà ¹× °Ç°­»ó °á°Ý »çÀ¯°¡ ¾ø´Â ºÐ

- Çз : ¼®»çÀÌ»ó

- Àü°ø : ½Å¼ÒÀç, È­ÇÐ, È­°ø, Àç·á

- ¿Ü±¹¾î : ¿µ¾î Communication°¡´ÉÀÚ

- ÇØ´ç°æ·Â : 3³â ÀÌ»ó

- ±âŸ : ±¹³» ÁÖ¿ä¼ÒÀç °ø±Þ ¾÷ü/¼ÒÀÚ ¾÷ü À¯°æÇèÀÚ ¿ì´ë

ÀüÇüÀýÂ÷

- ¼­·ùÀüÇü ¢º SKCT°Ë»ç(½ÉÃþ) ¢º ¸éÁ¢ÀüÇü ¢º °Ç°­°ËÁø ¢º ó¿ìÇùÀÇ

ÁÖ¿ä¼öÇà¾÷¹«

- Á÷¹« 1. High - k & Elecrode¿ë Precursor ¹× Gas °³¹ß ¹× ǰÁú °ü¸®

¡Ø ÀÚ»ç ¼³ºñ Platform¿¡ ¸Â´Â ½Å±Ô Precursor °³¹ß

¡Ø ±âº»ÀûÀÎ ÇÕ¼º Sequence¿¡ ´ëÇÑ Áö½Ä ±â¹ÝÀ¸·Î °³¹ß´Ü°è¿¡¼­ÀÇ Precursor Design ÀûÁ¤¼º °ËÁõ ¹× ½Å±Ô ǰÁú °ü¸® Para.¹ß±¼

¡Ø ½Å±Ô Precursor Concept Á¦¾È


- Á÷¹« 2. Cleaning Chemical °³¹ß ¹× ǰÁú °ü¸®

¡Ø Àڻ缳ºñ Platform¿¡ ¸Â´Â ½Å±Ô Chemical °³¹ß

¡Ø ±âº»ÀûÀÎ ÇÕ¼º Sequence¿¡ ´ëÇÑ Áö½ÄÀ» ¹ÙÅÁÀ¸·Î °³¹ß´Ü°è¿¡¼­ÀÇ Wet Chemical Design ÀûÁ¤¼º °ËÁõ ¹×

½Å±Ô ǰÁú °ü¸® para.¹ß±¼

¡Ø ½Å±Ô Chemical Concept Á¦¾È


- Á÷¹« 3. CMP Slurry ¹× Consumables °³¹ß ¹× ǰÁú °ü¸®

¡Ø Àڻ缳ºñ Platform¿¡ ¸Â´Â ½Å±Ô Slurry ¹× Consumables °³¹ß

¡Ø ±âº»ÀûÀÎ ÇÕ¼º Sequence¿¡ ´ëÇÑ Áö½ÄÀ» ¹ÙÅÁÀ¸·Î °³¹ß´Ü°è¿¡¼­ÀÇ Slurry Design ÀûÁ¤¼º °ËÁõ ¹× ½Å±Ô ǰÁú °ü¸® para.¹ß±¼

¡Ø ½Å±Ô Slurry °³¹ß Concpet Á¦¾È


- Á÷¹« 4. Wafer °³¹ß ¹× ǰÁú °ü¸®

¡Ø ÀÚ»ç Device Ư¼º °³¼±À» À§ÇÑ Wafer °³¹ß

¡Ø Single Crystal Growth Sequence¿¡ ´ëÇÑ Áö½ÄÀ» ¹ÙÅÁÀ¸·Î Wafer ÀûÇÕ¼º ¹× ½Å±Ô ǰÁú °ü¸® para. ¹ß±¼

¡Ø ½Å±Ô Wafer °³¹ß Concpet Á¦¾È

Á¢¼ö¹æ¹ý ¹× ±â°£

- Á¢¼ö¹æ¹ý : ´ç»ç ȨÆäÀÌÁö Á¢¼ö ÀÌ¿ë

¡Ø Á¢¼öó : ÀÔ»ç Áö¿øÀº ´ç»ç ä¿ëÆ÷ÅÐÀ» ÅëÇÑ ¿Â¶óÀÎ Áö¿ø¸¸ °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.

- Á¢¼ö±â°£ : 2018³â 06¿ù 28ÀÏ (¸ñ) ~ 2018³â 07¿ù 22ÀÏ (ÀÏ) 24:00 ±îÁö

±âŸ

- ³²ÀÚÀÇ °æ¿ì, º´¿ªÀ» ÇÊÇϰųª ¸éÁ¦µÈ ÀÚ¿¡ ÇÑÇØ Áö¿ø °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.

- º¸ÈÆ ´ë»óÀÚ´Â °ü·Ã¹ý¿¡ ÀǰŠ¿ì´ëÇÕ´Ï´Ù.

- Àå¾ÖÀÎ °í¿ëÃËÁø ¹× Á÷¾÷ÀçȰ¹ý¿¡ µû¶ó Àå¾ÖÀÎ µî·ÏÁõ ¼ÒÁöÀÚ´Â ¿ì´ëÇÕ´Ï´Ù.

- ÀÔ»çÁö¿ø¼­ ³»¿ëÀÌ »ç½Ç°ú ´Ù¸¦ °æ¿ì ÇÕ°Ý(ÀÔ»ç)ÀÌ Ãë¼ÒµË´Ï´Ù.


[ ¹®ÀÇó]

- SKÇÏÀ̴нº ¹Ì·¡±â¼ú¿¬±¸¿ø R&DÀÎ·ÂÆÀ °æ·Â ä¿ë ´ã´çÀÚ ±èÀ¯Áø Ã¥ÀÓ

- E - Mail : yujin1.kim@sk.com, ÀüÈ­ : 031)639-6847






* ÀÔ»çÁö¿ø ½Ã Áß¿ä»çÇ×À» ²À üũÇϼ¼¿ä!

* ±Ù¹«È¯°æ
±Ù¹«Áö¿ª : °æ±â
±Þ¿©Á¶°Ç : ´ç»ç±ÔÁ¤
* Á¢¼ö°³¿ä

¿À´Ã¸¶°¨

Á¢¼ö±â°£ÀÌ Áö³µ½À´Ï´Ù

¡á Á¢¼ö±â°£   ¡á ¿À´Ã   ¡á ¸¶°¨

2018. 06

  • ÀÏ
  • ¿ù
  • È­
  • ¼ö
  • ¸ñ
  • ±Ý
  • Åä
  • 1
  • 2
  • 3
  • 4
  • 5
  • 6
  • 7
  • 8
  • 9
  • 10
  • 11
  • 12
  • 13
  • 14
  • 15
  • 16
  • 17
  • 18
  • 19
  • 20
  • 21
  • 22
  • 23
  • 24
  • 25
  • 26
  • 27
  • 28
  • 29
  • 30

2018. 07

  • ÀÏ
  • ¿ù
  • È­
  • ¼ö
  • ¸ñ
  • ±Ý
  • Åä
  • 1
  • 2
  • 3
  • 4
  • 5
  • 6
  • 7
  • 8
  • 9
  • 10
  • 11
  • 12
  • 13
  • 14
  • 15
  • 16
  • 17
  • 18
  • 19
  • 20
  • 21
  • 22
  • 23
  • 24
  • 25
  • 26
  • 27
  • 28
  • 29
  • 30
  • 31
* ´ã´çÀÚ Á¤º¸
¸ðÁý±â°£ÀÌ Áö³­ ä¿ëÁ¤º¸ÀÇ °æ¿ì ´ã´çÁ¤º¸´Â °ø°³µÇÁö ¾Ê½À´Ï´Ù.
ÇöÀç ä¿ëÁ¤º¸¸¦ º¹»çÇÕ´Ï´Ù. ÇöÀç ä¿ëÁ¤º¸¸¦ ÇÁ¸°ÆÃÇÕ´Ï´Ù.

µî·Ï : 2018³â 6¿ù 28ÀÏ (¸ñ) 22:52    ÃÖÁ¾¼öÁ¤ : 2018³â 6¿ù 28ÀÏ (¸ñ) 22:56

º» Á¤º¸´Â SKÇÏÀ̴нº(ÁÖ) ¿¡¼­ Á¦°øÇÑ ÀÚ·áÀ̸ç, ½ºÄ«¿ìÆ®Àº(´Â) ±× ³»¿ë»óÀÇ ¿À·ù ¹× Áö¿¬, ±× ³»¿ëÀ» ½Å·ÚÇÏ¿© ÃëÇØÁø Á¶Ä¡¿¡ ´ëÇÏ¿© Ã¥ÀÓÀ» ÁöÁö ¾Ê½À´Ï´Ù. º» Á¤º¸´Â ½ºÄ«¿ìÆ®ÀÇ µ¿ÀÇ ¾øÀÌ Àç¹èÆ÷ÇÒ ¼ö ¾ø½À´Ï´Ù.

¢À ½ºÄ«¿ìÆ® ¿¡¼­´Â °ÅÁþ ±¸ÀÎ ±¤°í¿¡ ´ëÇÑ ÇÇÇØ¸¦ ÃÖ¼ÒÈ­ Çϱâ À§ÇÏ¿© ÇãÀ§ ä¿ë°ø°í¿¡ ½Å°íÁ¦µµ¸¦ ½ÃÇàÇϰí ÀÖ½À´Ï´Ù.
°ÅÁþ±¸Àα¤°í¿¡ ´ëÇÑ ±¸Á÷ÀÚÁÖÀÇ»çÇ× ½Å°íÆ÷»ó±ÝÁ¦ ¾È³» ÇãÀ§ ä¿ë°ø°í ½Å°íÇϱâ

±Ù¹«Áö À§Ä¡ º¸±â

±Ù¹«Áö ÁÖ¼Ò

°æ±â ÀÌõ½Ã °æÃæ´ë·Î 2091

Å©°Ôº¸±â

[ƯÁý±âȹ] ¹ý·ü»ç¹«Á÷

Á÷¾÷µ¸º¸±â

¹ý·ü»ç¹«Á÷À̶õ?º¯..

¸éÁ¢ helper

¸éÁ¢Áú¹®

Àμº ¡Ú¡Ú¡Ú¡Ú
Àû¼º ¡Ú¡Ú¡Ú¡Ú

Special Interview

½ºÆä¼ÈÀÎÅͺä
¹ý·ü »ç¹«Á÷À̶ó´Â ÀÏÀÌ ¾î¶² ÀÏÀÎÁö Àß ¸ð..